Hafnium: Pengendali Neutron dan Lapisan pada Cip
Hafnium menyerap neutron, sedangkan oksidanya dapat menjadi lapisan isolator pada transistor. Dua fungsi itu berasal dari bentuk bahan yang berbeda.
Sebuah unsur dapat hadir pada reaktor dan cip komputer dengan tugas yang sangat berbeda. Hafnium menjadi contoh jelas peran bentuk material dalam menentukan kegunaan.
Hafnium bersimbol Hf dan bernomor atom 72. Unsur ini diidentifikasi pada 1923 di Kopenhagen; Hafnia, nama Latin kota tersebut, menjadi asal namanya. Di alam, hafnium lazim menyertai zirkonium sehingga pemisahannya memerlukan proses khusus.
Hafnium menyerap neutron dan dapat digunakan pada batang kendali reaktor. Fungsinya membantu mengatur populasi neutron, bukan menjadi bahan bakar yang menghasilkan energi melalui fisi.
Hafnium dioksida, HfO2, memiliki kegunaan lain sebagai material isolator pada struktur transistor tertentu. Lapisan oksida ini tidak boleh disamakan dengan logam hafnium yang menghantarkan listrik. Video juga menampilkan penggunaan hafnium pada perangkat kerja bersuhu tinggi.
